靶材是通过磁控溅射、电子束蒸发或其他类型的镀膜系统(设备)在适当的工艺条件下,溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。
一般靶材主要由靶坯、背板等部分构成,其中,靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的重要部分,在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。
对于不一样的模具(塑胶模、五金冲压模、压铸模、、成型模、引伸模、拉伸模、翻边模等)和模具配件(冲棒、顶针)、机械耐磨、耐蚀零件等高要求五金制品所选用的PVD涂层工艺,可明显提升商品表层强度、耐磨性能、耐腐蚀性、耐温性及其润湿性;能够便捷脱膜,全力提高模具、零件的产品质量(如表面粗糙度、耐磨性、精度等)和使用期,使其合理的充分发挥商品的潜力!随着技术的发展,PVD技术也不断推陈出新,出现了很多针对某几种用途的专门技术
电子束蒸镀技术
电子束蒸镀(Electron Beam Evaporation)是物理气相沉积的一种。与传统蒸镀方式不同,电子束蒸镀利用电磁场的配合可以实现利用高能电子轰击坩埚内靶材,使之融化进而沉积在基片上。电子束蒸镀常用来制备Al、CO、Ni、Fe的合金或氧化物膜,SiO2、ZrO2膜,抗腐蚀和耐高温氧化膜。
电子束蒸镀与利用电阻进行蒸镀的优势在于:可以为待蒸发的物质提供更高的热量,因此蒸镀的速率也更快;电子束定位准确,可以避免坩埚材料的蒸发和污染。但是由于蒸镀过程中需要持续水冷,对能量的利用率不高;而且由于高能电子可能带来的二次电子可能使残余的气体分子电离,也有可能带来污染。此外,大多数的化合物薄膜在被高能电子轰击时会发生分解,这影响了薄膜的成分和结构。水电镀法:
工艺关键词:阳极溶解、阴极附着、电化学反应
水电镀法主要应用于打造高反射镜效果、增加附着层等,其优点是可镀大面积,成本低,缺点是电解液毒性高,工业污染大。
阳极氧化法:
工艺关键词:金属氧化成膜、电化学反应
阳极氧化亦可做成Ta2O2、TiO2、ZrO2、Nb2O5、HfO2、WO3等,主要用作保护膜或着色装饰膜
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