派瑞林涂层用于生物的表面(如骨钉、探针、导丝、起搏器、脑电极、植入式传感器等),以其较好的耐腐蚀、耐,、低阻滞性、低摩擦系数及生物相容性,将逐步取代TiNi(镍钛)合金涂层而被越来越多的用户选择。
派瑞林涂层用于硅片、芯片、半导体表面,能有效隔绝空气中的水氧,起到很好的封装作用。
派瑞林涂层用于和书籍画卷的表面,加固纸张的质地,在表面增加保护层,起到防蛀、防霉、的作用。
目前使用的Parylene主要有Parylene N,Parylene C和Parylene D三种,其共同点是高度惰性与高纯度,而每一种型号又有各自不同特点:Parylene N 具有很高的击穿强度,同时具有与频率无关的低介电常数;Parylene C提供了的电气特性和物理特性的组合,包括潮热环境和腐蚀性气体环境下的低渗透率;Parylene D 通过高温下优良的物理和电性能改善了热稳定性。Parylene HT是具备上述三种材料优点的一种组合材料。下面主要以 Parylene N和 Parylene C为例,介绍 Parylene的主要特性。由于Parylene涂层材料是在真空下沉积而成,是裂解的分子重新聚合形成的防护材料,属分子级的生长,生成的涂层致密稳定、摩擦系数小,且随着涂层生长厚度的增加,摩擦系数减小。在厚度为0.5μm时,摩擦系数仅相当于硅涂覆层的一半,厚度为2μm时的摩擦系数,仅相当于0.5μm厚涂层摩擦系数的1 /4。
Parylene 材料有良好的物理和机械性能,其和常用涂层的物理和机械性能比较如表 1 所示,从表中可以看出,其抗拉强度、线膨胀系数、硬度数值等参数相对稳定,变化范围小,摩擦系数较小。
离子源类型虽多,目的却无非在线清洗,改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度,同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层,一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高,可采用离子电流较大能级也较高的离子源,如霍尔离子源或阳极层离子源。
阳极层离子源,与霍尔离子源原理近似。在一条环形(长方形或圆形)窄缝中施加强磁场,在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长,特别适合镀大工件,如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散,且能级分布太宽。一般适用于大型工件,玻璃,磨损,装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。
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