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天津硅片除气装置公司诚信企业「科创真空」三防手机大全

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最后更新: 2024-01-15 15:55
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详细说明
4分钟前 天津硅片除气装置公司诚信企业「科创真空」[科创真空557abea]内容:

真空除气储存柜的加热系统

1、加热区尺寸:定制

2、加热功率:30-80 KW(实际功率可调)

3、加热元件:钼片

4、隔热组件:钼+不锈钢

5、温度测量:S型热电偶

6、控温精度:±1℃

7、升温速率 :由室温升至1000℃小于80min(空载)

8、加热室:采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构,各层之间采用99刚玉陶瓷,发热体为钼片,钼片均匀环绕在隔热屏周围,实现良好的温度均匀性。具有使用寿命长、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢(310S)板材料,并且焊接多道加强筋以保证不变形。

9、加热控制:采用PID智能控温模块设计,可编辑30+段升温曲线,存贮20+组工艺配方,组合PLC等实现超压、超温、过流等自动报警保护功能,10寸液晶触摸屏显示操作,具有操作方便,功能强大,稳定性好等特点。

真空除气储存柜的放置

本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方,环境温度是5-35℃,环境湿度是35%~65%的相对湿度;且要保持放置处长期通风良好的位置。使用前注意电压是否正确,仅适用机台上所标示之电压,避免电过量,而使电线走火.请勿置于潮湿之场所,请勿直接用水冲洗,以防漏电;

请小心将物品放入机台,关上箱门,检查是否密闭。试验结速后,站侧面打开箱门,以免热气烫到面部。

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉,真空度可高达10-7Pa,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点:

① 极限真空度高;

② 控温精度高;

③ 更高的升温速率;

④ 更加智能化;

⑤ 可真空去除产品空洞与气泡;

⑥ 降低产品的氧化性;

⑦ 提高工艺室的洁净度。

真空除气炉、真空存储柜的质保

设备是一种可以提供真空环境的储存设备,分为上中下三层箱室,均可独立工作。

设备自正式验收合格之日起整机免费保修12个月。免费保修的范围包括:(1)在正常情况下,在保修期间内非人为因素引起的一切设备质量问题和自然磨损;(2)备品备件清单,供方提供备品备件清单上所列的备件各一套。(3)在保修期内由需方使用不当造成的维修,只收需方的材料费。

原文链接:http://www.wxjsj.net/caigou/show-33309.html,转载和复制请保留此链接。
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