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干洗主要使用气相蚀刻晶圆上不规则分布的结构化二氧化硅层。虽然它具有对不同膜层选择性高的优点，但可清洗的污染物相对简单。目前，28nm及以下的技术主要应用于节点的逻辑产品和存储产品。晶圆制造线通常以湿法清洗为主，少数具体步骤由湿法和干法清洗相结合加以补充。短期内，湿法和干法工艺没有相互替代的趋势。目前，湿法清洗是主流的清洗技术路线，占芯片制造中清洗步骤数的90%。
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半导体用于许多工业机器，广泛应用于计算机、消费电子、网络通信、汽车电子等领域。半导体主要由四部分组成：集成电路、光电子器件、分立器件和传感器。销售额占比超过80%，这是半导体产业链中的一个领域。半导体清洗用于去除半导体硅片制造、晶圆制造、封装测试、半导体清洗设备公司各个步骤中可能存在的杂质，避免杂质影响芯片成品率和芯片产品性能目前，随着芯片制造工艺的不断提高，对芯片表面污染控制的要求也在不断提高。在诸如光刻、蚀刻和沉积的每个重复过程之后，需要清洁过程。
一种半导体氧化装置，其配备有：由室壁限定的可密封氧化室。它安装在氧化室中，用于支撑半导体样品的基底。用于向氧化室提供氧化剂。
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污染物会对设备中的电路形成额外的“微电路效应”，导致“慢腐蚀”，造成电气设备不同程度的接触不良甚至短路，影响电路的正常运行。
粉尘落入含有机械结构的设备后，设备机械作用的摩擦阻力会增加。轻的话会加速设备的磨损，严重的话会直接造成设备的损坏，缩短使用寿命。
因此，及时地清洗配电室设备上附着的污垢、油污等污染物，是保证配电室电气设备佳运行的一项的维护内容。
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10KV配电室设备的清洗有两种方式：。
1. 停电后，用鼓风机吹去电气设备表面的灰尘。除尘步骤根据设备的形状自上而下进行。同时，用毛刷和干抹布将电器元件和机柜上的灰尘擦去。一定要保持抹布和刷子的干燥和不受潮。
这种清洗方法简单方便，能去除设备表面的大面积灰尘。
2. 使用电气设备带电绝缘清洗剂，配合绝缘清洗设备用液体清洗电气设备。分解、洗去电气设备表面及缝隙上的油污。
这种清洗方法更、更深入、更，不会造成污染物移动，并可实现带电作业。
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腐蚀设备，降低设备的使用寿命。
电力系统设备运行的外部环境复杂，污垢中所含的酸、碱、盐等电解质在潮湿的环境中容易发生各种电化学反应，对设备造成腐蚀和损坏。降低精密设备工作的稳定性。
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带电清扫动力设备。
经济效益分析。
1。延长设备使用寿命。
设备充电清洗后，去除设备表面和深层的污染物，可避免因高温而缩短设备寿命。同时，也可避免因污染对设备的腐蚀而缩短设备寿命，延长设备使用寿命，降低企业成本。
2。免因停电造成的经济损失。
带电清洗方式可以在设备不停电的情况下进行清洗和维护，避免了企业因停电检修而停产造成的损失。同时避免了传统方法对设备造成的损坏。
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水泥粉尘与雨水和水分结合会牢牢地附着在设备表面，即使用干冰清洗也很难将其清除。然而，断路器、隔离开关、接地开关等电气设备，由于与周围环境中的氧气和化学物质接触，形成铁锈和化学腐蚀变质层的污垢，因此很难使用绝缘清洗剂。
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因此，这种类型的污垢的清除不能通过带电清洗进行。设备必须停止，并应使用酸性或碱性清洗剂通过化学反应进行清洗。清洗后，用大量清水冲洗，直至表面的pH值达到7。然后用相对密度大于1的绝缘清洁剂润湿，便于“挤出”设备槽、死角等处的水分，再用强风吹干，恢复其绝缘性能。然后就可以恢复电力，可以进行正常的操作。
