点击图片查看原图四种常见的真空镀膜材料
1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3，氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。
2.氟化物：氟化钕NbF3,BaF2，氟化CeF3，氟化镁MgF2，LaF3，氟化钇YF3，氟化镱YbF3，氟化铒ErF3等高纯氟化物。
3.其它化合物：硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，CdS等真空镀膜材料。
4.金属镀膜材料：高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni,高纯金Au，金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，铜铟合金CuInGa，铜铟硒合金CuInGaSe，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。真空PVD镀膜基本步骤前处理工艺褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装夹镀膜工艺抽真空、加热烘烤、漏率测试、轰击清洗、镀膜、冷却出炉后处理工艺清洗：确保镀膜前产品表面的清洁，越新鲜的表面，越能保证镀膜质量。
物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。涂敷防止弹性体元件中副产品溶出并保护产品表面不受和无机试剂、酸和溶液的影响。同时，物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。
可承受常规消毒Parylene涂层被广泛应用于各类产品，如心脏起搏器、房间隔缺损封堵器.血管支架、人工耳、人工心脏、超声波探头、线路板，骨钉、临时手术器械、替换型器件、引流管、脑部探针及针头等产品。
在国外除了心脏起搏 器用派瑞林进行可靠绝缘防护外，脑电极、植入式传感器、射频、血液分析传感器和高频手术刀等微型电子，也都有使用派瑞林。
