mask aligner半自动光刻机
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等。
广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上较早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。
主要特点：
光源强度可控；
1、紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
2、系统控制：手动、半自动和全自动控制；
3、曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；
4、真空吸盘范围可调；
5、技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式
6、双CCD显微镜系统，最大放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作。
7、特殊的基底卡盘可定做；
8、具有楔形补偿功能；
更多详情：http://www.airtest.net.cn/Products-30824045.html
https://www.chem17.com/st17159/product_30824045.html
原文链接：http://www.wxjsj.net/hangqing/show-18183.html，转载和复制请保留此链接。
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