碳纳米管研磨分散机，碳纳米管分散技术，碳纳米管分散难点

【产品名称概述】碳纳米管研磨分散机，碳纳米管分散技术，碳纳米管分散难点，碳纳米管分散技术三要素，研磨分散机的特点                      【碳纳米管分散技术三要素】

碳纳米管分散技术三要素：分散介质、分散剂和分散设备

 1、分散介质

 根据粘度不同，分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中，如水和溶剂，碳纳米管易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等，高粘度介质如熔融态的塑料。

 2、分散剂

 （1）分散剂的选择，与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关。

 （2）分散剂的用量，与碳纳米管比表面积和共价键修饰的功能基团有关。

 （3）水性介质中，推荐使用TNWDIS。强极性溶剂中，如醇、DMF、NMP， 推荐使用TNADIS。中等极性溶剂如酯类、液态环氧树脂、液态硅橡胶，推荐使用TNEDIS 。

 3、分散设备

（1）超声波分散设备：非常适合实验室规模、低粘度介质分散碳纳米管，用于中、高粘度介质时会受到限制。

（2）研磨分散设备：适合大规模地分散碳纳米管、中粘度介质分散碳纳米管。

（3）采用“先研磨分散、后超声波分散”组合方法，可以高效、稳定地分散   碳纳米管研磨分散机，碳纳米管分散技术，碳纳米管分散难点，碳纳米管分散技术三要素，研磨分散机的特点  【研磨分散机在碳纳米管分散中的应用】

    研磨分散机在碳纳米管分散中的应用，此次以碳纳米管分散到聚氨酯中为例。     碳纳米管分散到聚氨酯中，物料粘度很大，流动性很差，并且温度要求比较严格，研磨细度要求高，这是分散工艺中的难点。     结合武汉某工程大学以及哈尔滨某大学在上海依肯现在实验，实验结果表明IKNCMD2000研磨分散机在碳纳米管分散技术有着巨大的优越性，对于碳纳米管的分散，一方面要求研磨细度的提高，另一方面又要防止粒径细化后团聚的现象。而IKN研磨分散机正好可以同时解决这两个问题，碳纳米管在研磨细化后，有瞬间得到分散。所以保证了细度有避免了团聚，IKN研磨分散机无形中仿佛就是为碳纳米管量身定做的一样。在碳纳米管分散技术行业，上海依肯以及得到了充分的认可。      【碳纳米管研磨分散机的概述】    CMD2000系列研磨分散机的工作腔采用夹套设计，可加热或者冷却（不与物料接触）。采用立式分体式结构，精磨零部件配合运行平稳。采用德国博格曼双端面机械密封，并配械密封冷却系统，可将泄漏率降至，并可保证设备24小时不间断运行。 研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化机器，可以对物料先进行研磨细化，然后再均质分散。保证细度的同时也避免了团聚的现象。研磨分散机转速高达14000rpm，剪切力强，研磨效果好。 【碳纳米管研磨分散机的特点】

①   线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

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