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AMC空气分子污染物监测系统
一、AMC空气分子污染物监测系统3100S产品介绍：
1、实践证明深紫外光刻工艺深受多种类微量污染物的影响，对很多微量污染物极为敏感，比如氨气或者酸性气体都会给半导体生产带来较大的危害，尽管随着深紫外耐腐蚀材料技术的发展，已经减少了长时间持续实时监测，而实际上空气分子污染（AMC）的实时测量对产品质量的好坏至关重要。
2、猎户座3100S系列空气分子污染物监测系统基于CEAS（腔增强吸收光谱）技术连续分析仪器，将增加半导体器件阻抗一致性、保证更长的过滤器寿命、减少生产过程的停工时间。
1、实时监测空气分子污染（AMC）对于半导体生产过程极为重要。
2、快速监测、报警、极低浓度测量、宽测量区域、多气体的高灵敏响应等是半导体工业要求之一。
4、传统古老的方法多采用间接测量分析方法。包括撞击滤尘器、离子色谱、化学荧光法，这些方法分析速度太慢，操作过程太复杂，昂贵并且测量结果不准确。
https://www.chem17.com/st307321/product_35489416.html
http://www.bjdktech.com/SonList-2101588.html
