GL300Cluster纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产。
主要功能
●全自动200/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印生产线
●确保压印结构精度与结构填充完整性
●设备内自动复制柔性复合工作模具,降低大面积纳米压印模具使用成本
●全自动预处理步骤,包括基材兆声波清洗、旋涂匀胶、烘烤、冷却
●自动压印、自动曝光固化、自动脱模,工艺过程在局部洁净环境中自动进行,以保证压印质量
●标配高功率紫外LED面光源(365nm,光强>1000mW/cm2),水冷冷却,特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制,支持各种商用纳米压印材料
●产能可大于100片每小时,适合DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、生物芯片、LED等应用领域的量产
●随机提供全套纳米压印工艺与材料,包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程,帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平
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